抛光速率对平面抛光机的影响
2013-09-09 15:42:40   来源:www.jslyanmo.com   评论:0 点击:

抛光速率对平面抛光机的重要性,平面抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。

        抛光速率平面抛光机的重要性,平面抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织,即不会造成假组织。

 前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者要求使用最细的材料,使抛光损伤层较浅,但抛光速率低。 解决这个矛盾的最好的办法就是采用自动抛光设备。粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有最大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到最小。

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